1. 全國訂購服務熱線:010- 82595673 88546128


          三靶射頻磁控濺射鍍膜儀VTC-3RF
           
             
          查看大圖

          合肥科晶三靶射頻磁控濺射鍍膜儀VTC-3RF

          輸入電源:220V AC50/60Hz ,設備功率:<1500W ,靶臺加熱溫度:500℃,樣品臺轉速:0-10r/min ,靶頭可調傾角:0-25度,濺射腔體尺寸:278mm OD x 272mm ID x310mm H

          • 市場價 ¥0 (全國免運費)價格僅供參考,請電話或在線咨詢優惠價!
          咨詢熱線:010-88546128 82595673 工作時間:周一至周五 8:30-18:00
          實驗室儀器集成供應商 北京中儀公司旗下中國儀器網為您服務
            三靶射頻磁控濺射鍍膜儀VTC-3RF銷售1   三靶射頻磁控濺射鍍膜儀VTC-3RF銷售2   銷售3 合肥科晶三靶射頻磁控濺射鍍膜儀VTC-3RF質量三包,敬請來電或在線聯系優惠折扣價格。
          三靶射頻磁控濺射鍍膜儀VTC-3RF價格更優惠,供貨更及時,服務更周到!
          16年批發銷售實驗室儀器設備,信譽保證! 歡迎選購!
          中國儀器網

          三靶射頻磁控濺射鍍膜儀VTC-3RF合肥科晶產品簡介:
          VTC-3RF三靶射頻磁控濺射鍍膜儀,配有磁控等離子濺射頭和射頻(RF)等離子電源,此款設備主要用于制作非導電薄膜,特別是一些氧化物薄膜。對于新型非導電薄膜的探索,它是一款廉價并且高效的實驗幫手。

          三靶射頻磁控濺射鍍膜儀VTC-3RF合肥科晶產品技術參數:

          設備名稱

          三靶射頻磁控濺射鍍膜儀--VTC-3RF

          產品提示

          1、多種配件可選提示   2、特殊設備尺寸設備    3、科晶實驗室邀請提示    4、配件妥善保管提示

           

           

           

           

           

          主要特點

           

          ·標配的石英腔體(也可選配金屬腔體)方便觀察(圖1 

          ·相比傳統濺射儀,體積小巧,拆裝方便(圖2 

          ·模塊化設計,靶頭,電源等多種可選,自由DIY(圖3 

          ·基臺可旋轉可加熱 

          ·可濺射金屬和氧化物。實驗室已初步制備了 氧化鋅、碲化鉍、ITO、ATO、AU、Ag、Cu、Al、Mg、Sc等薄膜。

            
          圖1 圖2 圖3

           

           

            

           

          基本參數

           

          1、輸入電源:220V AC50/60Hz 

          2、設備功率:<1500W 

          3、靶臺加熱溫度:500 

          4、樣品臺轉速:0-10r/min 

          5、靶頭可調傾角:0-25 

          6、濺射腔體尺寸:278mm OD x 272mm ID x310mm H。 

          7、靶材尺寸要求:1英寸磁控濺射靶頭Φ25.4mm ×(0.1-3mm(厚度)    2英寸磁控濺射靶頭Φ50mm ×(0.1-3mm(厚度) 

          8、最高使用功率:1英寸磁控濺射靶頭100W     2英寸磁控濺射靶頭300W

           

           

            

           

           

           

          機體結構

           

          ·設備配備三個直流射頻通用靶頭,1英寸2英寸尺寸可選。 

          ·儀器中安裝有直徑為50mm的不銹鋼可旋轉樣品臺,最高加熱溫度是500℃(圖1 

          ·配有300W自動匹配射頻電源和500W的直流濺射電源(可自由選擇)(圖2

          ·設備上配1/4英寸進氣口方便連接氣瓶(圖3 

          ·配有靶頭電動升降臺(圖4 

          ·配有高純石英密封罩(圖5

          圖1 圖2 圖3 圖4 圖5

           

           

           

           

           

           

           

           

           

          配置可選

           

           

          2英寸高真空加熱臺

          膜厚監測儀

          供氣系統

          高真空系統

          反射光譜薄膜測厚儀

          水冷機

          真空干燥箱

          冷阱

          靶材

          晶體襯底材料

          超聲波清洗機

          等離子清洗機

           

           

           

            

          產品外形尺寸

           

          ·700mm L x 770 mm W x 1900 mm H 

          ·凈重:80 kg(不包括泵)

              

          備注:此產品尺寸為參考值,可能存在一定的誤差。如果您對尺寸有精確的要求,請在購買前和我公司聯系確認,以免給您造成不便。

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

          實驗室參考案例

           

          以下數據僅針對合肥科晶設備,不具有普遍性。 

          濺射氧化鋅薄膜

          基底采用:藍寶石(0001)基片(5*5*1mm3);

          靶材采用:Φ1”×2.5mm高純ZnO陶瓷靶

          XRD薄膜高分辨圖

          濺射ITO薄膜

          基底采用:Si(0001)基片(5*5*1mm3);

          靶材采用:Φ2”×2.5mm高純ITO靶

          EDS元素成分分析

          濺射Mg薄膜

          基底采用:Si(0001)基片(5*5*1mm3);

          靶材采用:Φ2”×2.5mm高純Mg靶

          EDS元素成分分析

          濺射Sc薄膜

          基底采用:Si(0001)基片(5*5*1mm3);

          靶材采用:Φ2”×2.5mm高純Sc靶

          EDS元素成分分析

           

          實驗案例照片 

          氧化鋅 ATO ITO
          碲化鉍
                 
             

           

           

             
               

           

           

          相關視頻

            
          操作視頻

           

           

          應用技術提示

           

           

          1、為了保證濺射效果,非導電靶材必須安裝銅墊塊 

          2、有時為了達到理想的薄膜厚度,可能需要多次濺射鍍膜 

          3、為了得到較好的薄膜質量,必須通入高純氣體(建議> 5N 

          4、在濺射鍍膜前,確保濺射頭、靶材、基片和樣品臺的潔凈 

          5、要達到薄膜與基底良好結合,請在濺射前清潔基材表面 

          6、在分子泵出口安裝有一個可手動操作的擋板 

          超聲波清洗:(1)丙酮超聲(2)異丙醇超聲-去除油脂(3)吹氮氣干燥(4)真空烘箱除去水分。

          等離子清洗:可表面粗糙化,可激活表面化學鍵,可祛除額外的污染物。

          制造一個薄的緩沖層(5納米左右):如Gr,Ti,Mo,Ta,可以應用于改善金屬和合金的附著力。 

            

           

           

           

          注意:產品內部安裝有高壓元件,禁止私自拆裝,帶電移動機體。 

          1、1英寸靶頭最大使用功率為100W 

          2、2英寸靶頭最大使用功率為300W 

          3、氣瓶上應安裝減壓閥(設備不包括),保證氣體的輸出壓力限制在0.02兆帕以下,以安全使用。 

          4、濺射頭連接到高電壓。為了安全,操作者必須在關閉設備后才能進行裝樣和更換靶頭等操作。 

          5、請勿在易燃易爆氣體環境下使用該設備 

          6、請勿在潮濕的環境下使用該設備 

          7、機體上禁止放置茶杯等裝有液體的器物 

          8、禁止儀器通電狀態下去拔插電源插頭

           
          質量認證

           

          CE認證

           

          質保

           

          一年保修,終身技術支持。
          特別提示:

          1.耗材部分如加熱元件,石英管,樣品坩堝等不包含在內。

          2.因使用腐蝕性氣體和酸性氣體造成的損害不在保修范圍內。

           

          優惠價提供下列儀器

          瀏覽過商品